Giới thiệu về tủ sấy Jeiotech OF-450G
Tủ sấy đối lưu cưỡng bức Jeiotech OF-450G là một sản phẩm chất lượng cao từ Hàn Quốc, được thiết kế để đáp ứng nhu cầu sấy khô trong các ứng dụng công nghiệp và phòng thí nghiệm. Với dung tích 450L và khả năng điều chỉnh nhiệt độ từ nhiệt độ phòng +10℃ đến 200℃, tủ sấy này phù hợp cho các ứng dụng yêu cầu kiểm soát nhiệt độ chính xác.
Thông số kỹ thuật chính
- Bộ điều khiển PID: Giúp duy trì nhiệt độ ổn định và chính xác.
- Thời gian trễ ON/OFF: Có thể cài đặt từ 1 phút đến 99 giờ 59 phút.
- Giao tiếp RS-232: Dễ dàng tích hợp vào hệ thống tự động hóa.
- Đối lưu cưỡng bức: Điều chỉnh quạt 5 cấp tốc độ để tối ưu hóa lưu thông không khí.
- Dung tích buồng sấy: 450L.
- Giải nhiệt độ: Nhiệt độ phòng +10℃ đến 200℃.
- Độ phân giải nhiệt độ: 0.1℃.
- Kích thước buồng sấy: 645×750×930mm.
- Kích thước ngoài: 835×1020×1505mm.
- Trọng lượng: 175 kg.
- Nguồn điện: 380V, 3 pha, 50/60 Hz, 6.5A.
Ưu điểm và hạn chế
Ưu điểm
- Điều khiển PID: Giúp duy trì nhiệt độ ổn định và chính xác.
- Khả năng giao tiếp: Cổng RS-232 giúp dễ dàng tích hợp vào hệ thống tự động hóa.
- Thiết kế thông minh: Cửa kính cường lực ba lớp tùy chọn cho phép quan sát dễ dàng bên trong buồng sấy.
- Khả năng điều chỉnh linh hoạt: Quạt điều chỉnh 5 cấp tốc độ cho phép kiểm soát lưu thông không khí tối ưu.
Hạn chế
- Sản phẩm ngừng sản xuất: Mặc dù có nhiều tính năng ưu việt, nhưng sản phẩm này đã ngừng sản xuất, có thể gây khó khăn trong việc bảo trì và thay thế linh kiện.
Ứng dụng thực tế
Tủ sấy Jeiotech OF-450G được sử dụng rộng rãi trong các phòng thí nghiệm nghiên cứu và các cơ sở sản xuất công nghiệp. Khả năng kiểm soát nhiệt độ chính xác và dung tích lớn giúp nó phù hợp cho việc sấy khô mẫu vật liệu, sản phẩm hóa học, và các ứng dụng yêu cầu độ chính xác cao khác.
Phân tích so sánh
So với các sản phẩm cùng loại trên thị trường, Jeiotech OF-450G nổi bật với khả năng điều khiển PID và giao tiếp RS-232. Tuy nhiên, việc sản phẩm đã ngừng sản xuất có thể là một điểm trừ khi so sánh với các sản phẩm mới hơn có tính năng tương tự.